Search


Current filters:

Start a new search
Add filters:

Use filters to refine the search results.


Results 1-5 of 5 (Search time: 0.004 seconds).
  • previous
  • 1
  • next
Item hits:
Issue DateTitleAuthor(s)
2019The dependence of aluminum nitride thin-film microstructure on the number of low-temperature plasma-enhanced atomic layer deposition process cyclesAmbartsumov, M. G.; Амбарцумов, М. Г.; Tarala, V. A.; Тарала, В. А.; Krandievsky, S. O.; Крандиевский, С. О.; Kravtsov, A. A.; Кравцов, А. А.; Saytiev, A. B.; Саутиев, А. Б.; Mitrofanenko, L. M.; Митрофаненко, Л. М.
2017Growing oriented AlN films on sapphire substrates by plasma-enhanced atomic layer depositionTarala, V. A.; Тарала, В. А.; Altakhov, A. S.; Алтахов, А. С.; Ambartsumov, M. G.; Амбарцумов, М. Г.; Martens, V. Y.; Мартенс, В. Я.
2015Growth of aluminum nitride films by plasma-enhanced atomic layer depositionTarala, V. A.; Тарала, В. А.; Altakhov, A. S.; Алтахов, А. С.; Shevchenko, M. Y.; Шевченко, М. Ю.; Valyukhov, D. P.; Валюхов, Д. П.; Lisitsyn, S. V.; Лисицын, С. В.; Martens, V. Y.; Мартенс, В. Я.
2015Growing aluminum nitride films by plasma-enhanced atomic layer deposition at low temperaturesTarala, V. A.; Тарала, В. А.; Altakhov, A. S.; Алтахов, А. С.; Martens, V. Y.; Мартенс, В. Я.; Lisitsyn, S. V.; Лисицын, С. В.
2016Growth of heteroepitaxial aluminium nitride films on aluminium oxide substrates via PEALD methodTarala, V. A.; Тарала, В. А.; Altakhov, A. S.; Алтахов, А. С.; Ambartsumov, M. G.; Амбарцумов, М. Г.; Martens, V. Y.; Мартенс, В. Я.; Shevchenko, M. Y.; Шевченко, М. Ю.