1. Репозиторий научных публикаций СКФУ

Browsing by Subject Aluminum nitride

Jump to: 0-9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Y Z
А Б В Г Д Е Ж З И Й К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Ц Ч Ш Щ Ъ Ы Ь Э Ю Я or enter first few letters:  
Showing results 1 to 8 of 8
Issue DateTitleAuthor(s)
2015Growing aluminum nitride films by plasma-enhanced atomic layer deposition at low temperaturesTarala, V. A.; Тарала, В. А.; Altakhov, A. S.; Алтахов, А. С.; Martens, V. Y.; Мартенс, В. Я.; Lisitsyn, S. V.; Лисицын, С. В.
2016Growing c-axis oriented aluminum nitride films by plasma-enhanced atomic layer deposition at low temperaturesTarala, V. A.; Тарала, В. А.; Ambartsumov, M. G.; Амбарцумов, М. Г.; Altakhov, A. S.; Алтахов, А. С.; Martens, V. Y.; Мартенс, В. Я.; Shevchenko, M. Y.; Шевченко, М. Ю.
2015Growth of aluminum nitride films by plasma-enhanced atomic layer depositionTarala, V. A.; Тарала, В. А.; Altakhov, A. S.; Алтахов, А. С.; Shevchenko, M. Y.; Шевченко, М. Ю.; Valyukhov, D. P.; Валюхов, Д. П.; Lisitsyn, S. V.; Лисицын, С. В.; Martens, V. Y.; Мартенс, В. Я.
2016Growth of heteroepitaxial aluminium nitride films on aluminium oxide substrates via PEALD methodTarala, V. A.; Тарала, В. А.; Altakhov, A. S.; Алтахов, А. С.; Ambartsumov, M. G.; Амбарцумов, М. Г.; Martens, V. Y.; Мартенс, В. Я.; Shevchenko, M. Y.; Шевченко, М. Ю.
2021Influence of coating thickness on the microstructure, composition and optical properties of aluminum nitride thin films grown on silicon substrates via low-temperature PEALDAmbartsumov, M. G.; Амбарцумов, М. Г.; Tarala, V. A.; Тарала, В. А.; Nikova, M. S.; Никова, М. С.; Krandievsky, S. O.; Крандиевский, С. О.
2020Influence of thermal annealing on the structure and optical properties of thin aluminum nitride films on sapphireDevitsky, O. V.; Девицкий, О. В.; Kravtsov, A. A.; Кравцов, А. А.; Sysoev, I. A.; Сысоев, И. А.
2019Ion-beam deposition of thin AlN films on Al2O3 substrateDevitsky, O. V.; Девицкий, О. В.; Sysoev, I. A.; Сысоев, И. А.; Kasyanov, I. V.; Касьянов, И. В.; Nikulin, D. A.; Никулин, Д. А.
2019The dependence of aluminum nitride thin-film microstructure on the number of low-temperature plasma-enhanced atomic layer deposition process cyclesAmbartsumov, M. G.; Амбарцумов, М. Г.; Tarala, V. A.; Тарала, В. А.; Krandievsky, S. O.; Крандиевский, С. О.; Kravtsov, A. A.; Кравцов, А. А.; Saytiev, A. B.; Саутиев, А. Б.; Mitrofanenko, L. M.; Митрофаненко, Л. М.
Showing results 1 to 8 of 8